MEMS雷射掃描投影方案

我們提供完整的MEMS雷射掃描投影方案,方案包含MEMS投影晶片組、微投影光機引擎與微投影模組的參考設計,其中MEMS投影晶片組由以下構成

2D MEMS mirror
  • 柵式掃描二微MEMS掃描晶片
  • MEMS鏡面位置偵測
  • 掃描成像控制晶片

Pico Projector engine此微投影方案提供廣色域、高對比以及無需對焦等特點的微投影顯示模組,微投影光機引擎體積可小於1.5cc、厚度5毫米。此外,兩組RGB雷射光源與稍大的光機體積,則可提供高於37流明的高亮度方案。


Pico projector engine

二維微機電掃描晶片

我們提供柵式掃描與共振掃描兩種二維微機電掃描晶片,反射鏡面表面標準鍍膜為鋁金屬,提供可見光範圍內的應用,針對近紅外光與紅外光的應用則可選擇性以金為鍍膜金屬材料。柵式掃描晶片主要是針對高解析度成像領域的應用所設計。

柵式掃描設計

  • 高速軸設計為共振式運動
  • 高速軸可透過PWM電壓訊號驅動
  • 低速軸可由特定電壓波形控制運動軌跡
  • 低速軸可作固定角度控制
  • 目前支援HD720P影像解析度成像

共振掃描設計

  • 兩軸均可透過PWM電壓訊號驅動
  • 兩軸擺動均為簡諧運動
  • 掃描角度可由PWM電壓、佔空比與頻率所控制
  • 備有二維微機電共振式掃描晶片評估套件
晶片名稱 OP-6111 OP-6200 OP-7200
照 片 2D MEMS bi-resonant 2D MEMS WVGA 2D MEMS 720P
運動形式 共振掃描 柵式掃描 柵式掃描
影像解析度 利薩如圖案 480P 720P
鏡面尺寸 1 mm圓形 1 mm圓形 1 mm圓形
鏡面金屬鍍膜 Al or Au Al or Au Al or Au
掃描頻率:高速軸 22,000Hz 18,500Hz 26,000Hz
掃描頻率:低速軸 1,400Hz 可控制 可控制
光學掃描角:高速軸 +/-20o +/-22o +/-22o
光學掃描角:低速軸 +/-15o +/-12o +/-12o
封裝尺寸 6mm x 8mm 4.8mm x 8mm 4.8mm x 8mm
供貨狀態 現貨 2017Q4 2017Q4

一維微機電掃描晶片

一維MEMS掃描晶片設計上採用共振模式,以達到大光學掃描角的性能,鏡面表面標準金屬鍍膜材料為金,於近紅外光與紅外光波長範圍內提供高反射率,適合應用於3D深度感測、手勢動作感測、雷射雷達(光達)、生醫檢測、雷射列印等應用。

  • 毫米尺寸反射鏡面
  • 金鍍膜鏡面,於紅外光與紅外光應用提供高反射率
  • 可以PWM形式電壓訊號驅動
  • 高品質簡諧運動,極低的掃瞄抖動
  • 掃描角度可透過PWM驅動電壓、佔空比與頻率控制
  • 備有一維微機電共振式掃描晶片評估套件
晶片名稱 BA0050 DC0200 LB0250
照 片 1D MEMS 500Hz 1D MEMS 1.4x1.4mm 1D MEMS 4x1mm
鏡面尺寸 2.5mm x 3.0mm 1.4mm x 1.4mm 4.0mm x 1.0mm
鏡面金屬鍍膜 Au Au Au
共振頻率 500Hz 1,800Hz 2,500Hz
光學掃描角 +/-26o +/-40o +/-40o
封裝型式 PLCC PLCC or Bare die CLCC
供貨狀態 暫無庫存 現貨 暫無庫存

共振式MEMS微掃描晶片評估套件

此評估套件的主要功用是讓讓使用者能快速的使用與評估共振式MEMS微掃描晶片的應用,一維與二維MEMS微掃描晶片均有對應的套件與操作軟體,評估套件包含以下內容:

  • 焊接於小尺寸電路版的共振式MEMS微掃描晶片
  • MEMS驅動控制電路板
  • MEMS電路板連接線
  • 操作軟體光碟
  • USB轉RS232 cable
  • 5V電源線

操作軟體提供使用介面,方便操作控制MEMS驅動控制電路板輸出的MEMS驅動訊號:

  • 手動控制驅動訊號頻率
  • 手動控制驅動訊號的佔空比
  • 自動進行驅動訊號掃頻以快速啟動MEMS

MEMS EVK